臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司長期供應高純鈦靶材 鈦顆粒 鈦塊 鈦錠 鈦粉

名稱：高純鈦 顆粒密度：4.507g/cm3符號：Ti熔點：1668℃原子量：47.867沸點：3287℃產品優(yōu)勢：氣體含量低，純度高，晶粒細小，顯微組織均勻。加工流程：熔錠→鍛棒→夾制盤條→拉絲→切?！鷻z測→包裝出庫質量控制：采用ICP光譜法分析顆粒中雜質元素含量，保證材料純度；可提供質檢報告。

臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司長期供應高純鈦及高純鈦靶，高純鈦靶材，純度為99.9%-99.999%，研創(chuàng)新材專業(yè)生產金屬鍍膜材料，鈦靶是我們的主營靶材之一，主要用于濺射鍍膜，各大科研院所及高校實驗。高純鈦靶的相關介紹如下：

1、高純鈦靶材的純度為99.5%，99.9%，99.99%，99.999%。

2、平面高純鈦靶材常用規(guī)格：?100*40，?76.2*6，100*400*10等。

3、柱狀高純鈦靶：100*80，125*63等等。

4、高純鈦靶的規(guī)格尺寸可根據客戶要求定做，也可按圖紙加工。

5、高純鈦靶的生產工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術。

6、蒸鍍用高純鈦絲：?0.2-3。

7、蒸發(fā)用高純鈦顆粒:6*6,2*10,3*3等。

臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司高純單質濺射靶材

高純鋁靶材Al高純銅靶材Cu高純鐵靶材Fe高純鈦靶材Ti高純鎳靶材Ni

高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr高純鋅靶材Zn高純銀靶材Ag高純鈷靶材Co

高純鈮靶材Nb高純錫靶材Sn高純銦靶材In高純鋯靶材Zr高純鉭靶材Ta

高純鍺靶材Ge高純硅靶材Si高純鎢靶材W高純鉿靶材Hf高純釔靶材Y

高純釓靶材Gd高純釤靶材Sm高純鏑靶材Dy高純鈰靶材Ce高純鑭靶材La

高純金靶材Au高純不銹鋼靶材高純石墨靶材C高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo

高純鉑靶材Pt高純鉛靶材Pb高純鐠靶材Pr高純鋱靶材Tb高純鈥靶材Ho

高純鐿靶材Yb高純銩靶材Tm高純镥靶材Lu高純鉺靶材Er高純鈧靶材Sc