選擇耀一爐內(nèi)高分子脫硝設(shè)備的理由

當(dāng)在線檢測(cè)到的數(shù)據(jù)傳遞給中心控制模塊時(shí)，中心控制模塊通過計(jì)算得到數(shù)據(jù)后指令電子控制給料器給所需投入還原劑的多少，同時(shí)指令中心風(fēng)泵調(diào)整氣流壓力與風(fēng)量，通過氣料混合系統(tǒng)、射流系統(tǒng)將氣料混合物送入爐膛內(nèi)噴射開始脫硝。

高分子脫硝劑脫硝工藝與 SNCR 工藝比擬，其不同點(diǎn)是脫硝劑不同，高分子脫硝劑工藝為脫硝劑固體粉末；而 SNCR 為氨水或尿素； 高分子脫硝劑脫硝工藝與

SNCR 工藝投資比擬，省去了氨逃逸檢測(cè)投資。

它所用的設(shè)備有原料二次混合倉，原料倉，氣料混合器，射流泵，中心風(fēng)泵，計(jì)量裝置，噴射管路，噴嘴，控制檢測(cè)。選擇耀一爐內(nèi)高分子脫硝設(shè)備的理由

SNCR技術(shù)工藝簡(jiǎn)樸，但要求的反應(yīng)溫度高，合用爐型有限，特別是鏈條爐，一般鍋爐容量較小，負(fù)荷變動(dòng)頻繁，鍋爐的運(yùn)行前提不能知足SNCR的要求。

NOＸ＋NH3→N2↑+H2O（高分子脫硝）

工藝流程

本脫硝技術(shù)使用一種高分子活性物質(zhì)作為脫硝還原劑。它能在700度到1050度范圍內(nèi)迅速（1-2s）與NOX發(fā)生還原反應(yīng)天生氮?dú)猓∟2）二氧化碳（CO2）和水

（H2O）。通常設(shè)計(jì)公道的活性氨煙氣脫硝工藝可達(dá)到70%-90%的NOx脫除效率。我公司與合作單位研究發(fā)現(xiàn)了一種高活性氨基還原劑（NR3）及其出產(chǎn)技術(shù)，它能夠在反應(yīng)溫度700℃～1050℃范圍內(nèi)，無催化劑前提與NOx發(fā)生還原反應(yīng)，并保持較高的脫除效率。

選擇耀一爐內(nèi)高分子脫硝設(shè)備的理由