產(chǎn)品概述：

諾泰PT-V1200-LG 1200℃高校實驗室坩堝爐集控制系統(tǒng)與爐膛一體，其中爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，加熱元件采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品。主要用于金屬、非金屬及化合物材料進行燒結(jié)、融化、分析?？刂泼姘迮溆兄悄軠囟日{(diào)節(jié)儀，控制電源開關(guān)、主加熱工作/停止按鈕，以便隨時觀察。

適用范圍：

該款坩堝熔化爐的各項指標均達到了國際先進水平，主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導(dǎo)體晶片，也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。