高分子脫硝設備廠家

脫硝PLC系統(tǒng)包括裝置運行的所有參數(shù)歷史曲線，同屏顯示脫硝控制參數(shù)曲線，數(shù)據(jù)保存一年。系統(tǒng)能夠記錄機組負荷（或煙氣流量）、爐膛溫度、脫硝設施運行時間、出口NOx濃度、還原劑噴入量。

HNCR工藝技術、、經(jīng)濟合理，較SNCR、SCR方法有顯著，項目總體建設投資少，還原劑、水和能源消耗少，運行費用，占地面積小。

HNCR反應只有在一定的溫度下才能進行（750℃＜T＜1250℃）。

HNCR脫硝率還受到氧氮比、初始濃度、停留時間、氧濃度等因素影響,相差較大。

本公司在中試規(guī)模的試驗裝置CRF ( combustion research facility)上進行了 PSCR脫硝試驗,試驗條件模擬實際工況下的煙氣參數(shù)、溫度和停留時間,實驗得出。隨著氨氮比的增加,NO的還原率逐漸提高,在NOx脫除過程適合的噴入點溫度為900℃。

*何反應都需要在一定的時間內(nèi)才能完成,足夠的停留時間是保證反應轉化率的重要條件, HNCR反應所需的時間受溫度和混合條件的制約,變化較大。

HNCR脫硝工藝的關鍵是高分子煙氣脫硝材料，該類脫硝劑含有活性的酰胺基團，當在爐膛上選擇合適的進料位置，噴入脫硝還原劑干粉，使脫硝劑與煙氣*分。

混合后，在750~1250℃范圍的高溫下，脫硝劑分解出的活性酰胺基團與NOx 反應，轉化為H2O、N2、CO2 及其它

無*氣體而達到脫硝目的。