掩模式打標(biāo)又叫投影式打標(biāo)。掩模式打標(biāo)系統(tǒng)由激光器、掩模板和成像透鏡組成，其工作原理，經(jīng)過望遠(yuǎn)鏡擴(kuò)束的激光，均勻的投射在事先做好的掩模板上，光從雕空部分透射。掩模板上的圖形通過透鏡成像到工件（焦面）上。通常每個脈沖即可形成一個標(biāo)記。

陣列式打標(biāo)，它是使用幾臺小型激光器同時發(fā)射脈沖，經(jīng)反射鏡和聚焦透鏡后，使幾個激光脈沖在被打標(biāo)材料表面上燒蝕（熔化）出大小及深度均勻的小凹坑，每個字符、圖案都是由這些小圓黑凹坑構(gòu)成的，一般是橫筆劃5個點(diǎn)，豎筆劃7個點(diǎn)，從而形成5×7的陣列。

其工作過程：激光束經(jīng)過反光鏡①、②轉(zhuǎn)折光路后，再經(jīng)過光筆（聚焦透鏡）③作用射到被加工工件上。其中繪圖儀筆臂④只能帶著反光鏡①和②沿X軸方向來回運(yùn)動；光筆③連同它上端的反光鏡②（兩者固定在一起）只能沿Y軸方向運(yùn)動。在計算機(jī)的控制下（一般通過并口輸出控制信號），光筆在Y方向上的運(yùn)動與筆臂 在X方向上的運(yùn)動合成，可使輸出激光到達(dá)平面內(nèi)任意點(diǎn)，從而標(biāo)刻出任意圖形和文字。

本公司擁有先進(jìn)的紫光鐳雕機(jī)屬于冷光技術(shù)來進(jìn)行雕刻，???紫外激光具有 聚焦光及小，且加工熱影響區(qū)小，不會產(chǎn)生熱效應(yīng)，不會產(chǎn)生材料燒焦問題。標(biāo)刻速度快，效益高。針對各種塑膠制品、硅膠制品、玻璃制品、亞克力制品、金屬或非金屬制品等產(chǎn)品都可以采用紫光鐳雕，可以實(shí)現(xiàn)在產(chǎn)品雕刻LOgo商標(biāo)、文字、圖案、二微碼、序列號、防偽碼等。