溫濕度要求比一般空調高一般空調要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內。

所需的外氣較多由于半導體工廠中，制程系統(tǒng)需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產生的揮發(fā)氣體和廢氣必須予以全數排除，故排氣量相當大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。

空調系統(tǒng)24小時全天運轉并監(jiān)控管理半導體工廠部分制程設備，對溫濕度變化極為敏感，如黃光區(qū)Stepper光學機臺，些微的溫、濕度變化均會使設備的準度偏差，另外芯片等產品也必須置放在定溫定濕的環(huán)境下，故空調系統(tǒng)必須24小時監(jiān)控管理之。

半導體廠凈室室內壓力大小半導體廠凈室室內壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉成本。

氣流分布須均勻凈室空調為帶走凈室內所產生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當的控制。