氧化銦是一種寬禁帶半導(dǎo)體，具有良好的光學(xué)透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導(dǎo)電性。這種成分結(jié)構(gòu)使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學(xué)和電學(xué)性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導(dǎo)電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設(shè)備和顯示技術(shù)。

主流回收工藝分類 當(dāng)前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學(xué)法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結(jié)合篩網(wǎng)過濾實現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設(shè)備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導(dǎo)致純度下降至95%以下。

物理分離法中的機械剝離技術(shù)，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進行分離。隨后，再結(jié)合化學(xué)處理對分離出的ITO涂層進行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。再生銦的應(yīng)用廣泛，包括重新制備ITO靶材，以及在半導(dǎo)體、合金等領(lǐng)域的使用。從經(jīng)濟角度看，回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采，同時，回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述，ITO銦的回收不僅對環(huán)境友好，還能帶來顯著的經(jīng)濟效益。隨著科技的不斷進步和電子廢棄物數(shù)量的不斷增加，且環(huán)保的回收方案將成為稀散金屬可持續(xù)利用的關(guān)鍵所在。

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