氧化銦是一種寬禁帶半導體，具有良好的光學透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導電性。這種成分結構使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學和電學性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設備和顯示技術。

當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯(lián)合工藝三類：

熔煉過濾法（物理法）

通過高溫熔煉結合篩網(wǎng)過濾實現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括：

廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。

熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。

該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

銦回收面臨的主要挑戰(zhàn)包括銦在電子設備中的低濃度和與其他金屬的合金化。傳統(tǒng)的回收方法難以有效提取，需要采用濕法冶金或火法冶金等先進技術。同時，回收過程中需確保電子廢物流的分類和處理，以減少污染物對回收過程的影響。

目前，市場上已有不少專業(yè)的ITO靶材回收企業(yè)，他們通過先進的回收技術和設備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進行有效分離和提純，再加工成新的靶材產(chǎn)品，實現(xiàn)了資源的循環(huán)利用。